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産品應用:二
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
産品組成:
PECVD系統配置:
1.1200度開啓式雙溫區真空管式爐
2.滑動系統分爲手動、電動滑動,并配置管内測溫系統。
3.預加熱開啓式管式電爐
4.等離子射頻電源
5.多路質量流量控制系統
6.真空系統(可選配中真空或高真空)
産品特點:
生長溫度低;沉積速率快;成膜質量好,适用範圍廣,設備簡單。

天津中環電爐股份有限公司 地址:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11号